Mithilfe eines photolithografischen Verfahrens können optische Schichten lateral strukturiert werden. Auf diese Weise ist es möglich, eine optische Schicht nur auf Teilflächen eines Substrats aufzubringen oder verschiedene optische Schichten auf einer Fläche zu platzieren. Die Größe der herstellbaren Filterelemente liegt im Bereich zwischen 20 µm und einigen Zentimetern, die Positioniergenauigkeit der beschichteten Flächen bei ca. 1 µm. Prinzipiell können alle Schicht- und Filtertypen auch als strukturierte Beschichtung gefertigt werden.

Bitte fragen Sie bei uns an. Zu Einzelheiten der möglichen Spezifikationen und des Layouts beraten wir Sie gern.

 

Filter-Array
Anordnung verschiedener Interferenzfilter auf einer Fläche

 

Filter on chip
Direktabscheidung von Interferenzfiltern auf Halbleiter-Photoempfängern

 

Ordnungsfilter
Anordnung von Langpass-Filtern auf Deckgläsern für Mini-Spektrometer