mso jena bietet die Direktabscheidung von optischen Filtern auf Photodetektoren (Photodioden, Phototransistoren, CMOS-Sensoren) jetzt für alle Waferformate zwischen 2 und 8 Zoll an. Durch die Filterbeschichtung wird die spektrale Empfindlichkeit der Detektoren an nutzerspezifische Anforderungen angepasst. Typische Beispiele sind die Blockung des NIR-Anteils oder die Erzeugung einer Bandpass-Charakteristik.

Vorteile gegenüber der Verwendung separater optischer Filter liegen in der Verminderung der Bauteildicke und in der Einsparung von Montageaufwand. Durch die photolithografische Strukturierung werden Bondpads von der Filterbeschichtung freigehalten. Ein besonderer Vorzug der Mikrostrukturierungstechnik liegt in der hohen Positioniergenauigkeit. Damit können auch verschiedene Filter auf benachbarte Detektoren eines Chips aufgebracht werden.